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Elektronenstrahl-Lithographie

Raith e_LiNE mit EDX-System

Die "Ultra high resolution electron beam Lithography and Nano Engineering workstation" (e_LiNE) von Raith ist ein Komplettsystem für Lithographie, Mikroskopie und Elementanalyse:

Lithographie

Will man kleinere laterale Strukturen herstellen als mit der Photolithographie möglich sind, so kann dies mit der Elektronenstrahllithographie (EBL) erreicht werden. Bei dieser Methode wird die Energie nicht mittels Licht in den Resist übertragen wie bei der Photolithographie, sondern mittels Elektronen. Dadurch ist die Wellenlänge des Trägers nicht länger auflösungsbegrenzend: Die de Broglie-Wellenlänge von Elektronen bei 20 keV beträgt ca. 9 Picometer! Die Elektronenoptik, die Streuung der Elektronen in der Probe sowie die Eigenschaften des Resists begrenzen nun die erreichbaren Strukturgrößen.

Im Unterschied zur Photolithographie werden bei der EBL die Strukturen seriell geschrieben: Ein fokussierter Elektronenstrahl belichtet nacheinander alle vorgesehenen Teile der Probe. Die EBL dauert dadurch wesentlich länger als die Photolithographie, ist jedoch für die Forschung die wichtigste Methode zur Erzeugung kleiner Strukturen und zur Herstellung von Prototypen.

Raith e_LiNE Elektronenstrahl-Lithographie System am NSC