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Raith e_Line-System - Spezifikationen

Lithographie

  • Schottky Feldemissionsquelle
  • Elektronensäule Gemini® der Supra™-Serie von Zeiss mit 100 eV bis 30 keV
  • 20 MHz Patterngenerator
  • Schreibfeld 500 nm bis 2 mm, max. 16 Bit × 16 Bit adressierbar
  • laserinterferometrisch gesteuerte Probenbühne mit 100 mm × 100 mm Verfahrweg,
    Positioniergenauigkeit 2 nm
  • Strahldurchmesser ≤ 4 nm bei 1 kV, ≤ 2 nm bei 20 kV
  • Stitching- und Overlaygenauigkeit ≤ 60 nm
  • automatische Höhenmessung

Mikroskopie

  • Zwei Sekundärelektronendetektoren, einer davon "in-lens"
  • Vergrößerung max. 1 000 000-fach
  • Bildgröße bis 3072 × 2304 Pixel

EDX

  • "QuanTax"-System von Bruker
  • stickstofffreier Detektor "XFlash® 3001"

Weitere Informationen über das Elektronenstrahllithographiesystem e_Line finden Sie auf den Seiten der Firma Raith.

Informationen zur Elektronenoptik finden Sie auf den Seiten der Firma Zeiss.