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Belichter "EVG 620" Double Side Mask Aligner

  • Kontaktlithographie
  • Lampe: 350 W Hg
  • Optik: Breitband 350-450 nm Wellenlänge
  • oder Filter i-Linie (365 nm)
  • Probengröße: 2"-100 mm Wafer (Belichtungsfeld max. 3"), Bruchstücke
  • Maskengröße: 3"-125 mm
  • Vorder- und Rückseitenjustierung
  • Kontaktmodi: proximity, soft, hard, Vakuum, hard+Vakuum
  • Justieren für Substratbonden