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Oberflächenreinigungssystem “Hitachi ZONESem”

  • Reinigung von Oberflächen von Proben zur Rasterelektronenmikroskopie
  • Entfernt Kohlenwasserstoffverbindungen für kontaminationsfreie REM-Bilder
  • Reinigung mittels UV Lampe (254 nm mit 1,3 W) und Ozon
  • Reinigungszeiten von 0 bis 30 Minuten in 1 min Schritten programmierbar