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Sputteranlage "Oerlikon UNIVEX 450 C"

  • 4 Zoll Sputterquellen
  • 2 Prozesskammern mit je 6 Magnetrons
  • Materialien: Ag, Au, Cu, Cr, Ti, SiO2, Co, Fe, Permalloy, IrMn, Ru, MgO; weitere Materialien auf Anfrage
  • je Prozesskammer können zwei Quellen gleichzeitig brennen
  • das Substrat kann in den Prozesskammern unter einer Quelle oder zwischen zwei Quellen oszillieren
  • optional: Vorbehandeln der Substrate durch Sputter-Ätzen
  • optional: Probenheizen bis 500 °C
  • optional: Substratbias