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Zweistrahl-Gerät FIB/REM

"FEI Helios NanoLab 650"

Das Zweistahlgerät ist eine Kombination aus einer Elektronen- und einer Ionenstrahlsäule. Es dient sowohl der Elektronenstrahl-Mikroskopie und -Lithographie als auch der Ionenstrahl-Mikroskopie und des fokussierten Ionenstrahl ("focussed ion beam (FIB)")-Schreibens. Lithographie und direktes Ionenstrahl-Schreiben können mithilfe des Raith-Multibeam-Systems gesteuert werden.