Geräte und Technologien
Zweistrahlgerät FIB/REM
- FEI Helios Nanolab 650
- ZeroK Cs-FIB
Elektronenstrahl-Lithographie
Photolithographie:
Prozessierung:
- Elektronenstrahl-Aufdampfanlage
- Sputteranlage
- Plasmaätzanlage (ECR-RIE)
- Ionenstrahlätzanlage (RIBE)
- Wafersäge
- Oxidationsofen
- Plasmaverascher
- Substratbonder
- Drahtbonder
- Trockenschrank
- Vakuumofen
- HV-Beschichtungsanlage
- Oberflächenreinigungssystem
- Kantenpolierer