• Schottky Feldemissionsquelle
• Elektronensäule mit dedizierter Elektronenoptik für Elektronenstrahllithographie bis zu 50 keV.
• 50 MHz Hochgeschwindigkeitspatterngenerator
• 1cm2/h bei 50% Schreibdichte
• 500µm Schreibfeld mit dynamischer Echtzeitfehlerkompensation,
  max. 18 Bit × 18 Bit adressierbar
• laserinterferometrisch gesteuerte Probenbühne mit 150 mm × 150 mm Verfahrweg,
  Positioniergenauigkeit 1 nm
• Strahldurchmesser ≤ 4 nm bei 1 kV, ≤ 2 nm bei 20 kV
• Stitching- und Overlaygenauigkeit ≤ 20 nm
• Spezielle lückenlose Schreibmodie für Waveguides und Gitterstrukturen
• automatische Höhenmessung

Weitere Informationen über das Elektronenstrahllithographiesystem Voyager finden Sie auf den Seiten der Firma Raith.