Sputteranlage "Oerlikon UNIVEX 450 C"
- 4 Zoll Sputterquellen
- 2 Prozesskammern mit je 6 Magnetrons
- Materialien: Ag, Au, Cu, Cr, Ti, SiO2, Co, Fe, Permalloy, IrMn, Ru, MgO; weitere Materialien auf Anfrage
- je Prozesskammer können zwei Quellen gleichzeitig brennen
- das Substrat kann in den Prozesskammern unter einer Quelle oder zwischen zwei Quellen oszillieren
- optional: Vorbehandeln der Substrate durch Sputter-Ätzen
- optional: Probenheizen bis 500 °C
- optional: Substratbias