Oberflächenreinigungssystem “Hitachi ZONESem”
- Reinigung von Oberflächen von Proben zur Rasterelektronenmikroskopie
- Entfernt Kohlenwasserstoffverbindungen für kontaminationsfreie REM-Bilder
- Reinigung mittels UV Lampe (254 nm mit 1,3 W) und Ozon
- Reinigungszeiten von 0 bis 30 Minuten in 1 min Schritten programmierbar