Oberflächenreinigungssystem “Hitachi ZONESem”

• Reinigung von Oberflächen von Proben zur Rasterelektronenmikroskopie
• Entfernt Kohlenwasserstoffverbindungen für kontaminationsfreie REM-Bilder
• Reinigung mittels UV Lampe (254 nm mit 1,3 W) und Ozon
• Reinigungszeiten von 0 bis 30 Minuten in 1 min Schritten programmierbar