RPTU
Nano Structuring Center
Deutsch
English
Hauptnavigation
Nano Structuring Center
Mitarbeitende
Ausstattung
Ausstattung
Ausstattung
Zweistrahlgerät FIB/REM
FEI Helios Nanolab 650
Elektronenstrahl-Lithographie
Raith Voyager
Photolithographie
Belichter
Direkter Laserstrahl-Schreiber
Sprühbelacker
Lackschleuder
HMDS-Ofen
Prozessierung
Elektronenstrahl-Aufdampfanlage
Sputteranlage
Plasmaätzanlage
Ionenstrahl-Ätzanlage
Wafersäge
Oxidationsofen
Plasmaverascher
Substratbonder
Drahtbonder
Trockenschrank
Vakuumofen
HV-Beschichtungsanlage
Oberflächenreinigungssystem
Kantenpolierer
Analyse
Oberflächen-Profilometer
Spektroskopisches Ellipsometer
Vier-Spitzen-Messplatz
Mikrospektrometer
Optische Mikroskope
Energiedispersive Röntgenanalyse (EDX)
Rasterelektronenmikroskop
Rasterkraftmikroskop
Publikationen
Publikationen
Publikationen
2022
2021
2020
2019
2018
2017
2016
2015
2014
2013
2012
2011
2006-2010
Adresse
Links
Nano Structuring Center
NSC
Ausstattung
Prozessierung
Ionenstrahl-Ätzanlage
Ionenstrahl-Ätzanlage (IBE-RIBE) "Roth&Rau IonSys 500"
Probengröße: max. 100 mm Wafer, Bruchstücke
Ionenstrahldurchmesser 120 mm
Ionenenergie 100...2000 eV
Ionenstromdichte bis 1 mA/cm
2
Gase: Ar, N
2
, SF
6
, CHF
3
