Belichter "EVG 620" Double Side Mask Aligner
- Kontaktlithographie
- Lampe: 350 W Hg
- Optik: Breitband 350-450 nm Wellenlänge
- oder Filter i-Linie (365 nm)
- Probengröße: 2"-100 mm Wafer (Belichtungsfeld max. 3"), Bruchstücke
- Maskengröße: 3"-125 mm
- Vorder- und Rückseitenjustierung
- Kontaktmodi: proximity, soft, hard, Vakuum, hard+Vakuum
- Justieren für Substratbonden