Lithographie

• Schottky Feldemissionsquelle
• Elektronensäule Gemini^® der Supra™-Serie von Zeiss mit 100 eV bis 30 keV
• 20 MHz Patterngenerator
• Schreibfeld 500 nm bis 2 mm, max. 16 Bit × 16 Bit adressierbar
• laserinterferometrisch gesteuerte Probenbühne mit 100 mm × 100 mm Verfahrweg,
  Positioniergenauigkeit 2 nm
• Strahldurchmesser ≤ 4 nm bei 1 kV, ≤ 2 nm bei 20 kV
• Stitching- und Overlaygenauigkeit ≤ 60 nm
• automatische Höhenmessung

Mikroskopie

• Zwei Sekundärelektronendetektoren, einer davon "in-lens"
• Vergrößerung max. 1 000 000-fach
• Bildgröße bis 3072 × 2304 Pixel

EDX

• "QuanTax"-System von Bruker
• stickstofffreier Detektor "XFlash^® 3001"

Weitere Informationen über das Elektronenstrahllithographiesystem e_Line finden Sie auf den Seiten der Firma Raith.

Informationen zur Elektronenoptik finden Sie auf den Seiten der Firma Zeiss.